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下载须知 | 常见问题汇总
CPU是怎样制造的？--解析intel_Core_i7生产全过程
CPU是怎样制造的解析INTELCOREI7生产全过程,根据玩家联盟资料制作,沙子硅是地壳内第二丰富的元素，而脱氧后的沙子尤其是石英最多包含25％的硅元素，以二氧化硅SIO2的形式存在，这也是半导体制造产业的基础,硅熔炼12英寸/300毫米晶圆级，下同。通过多步净化得到可用于半导体制造质量的硅，学名电子级硅EGS，平均每一百万个硅原子中最多只有一个杂质原子。此图展示了是如何通过硅净化熔炼得到大晶体的，最后得到的就是硅锭INGOT。,单晶硅锭整体基本呈圆柱形，重约100千克，硅纯度999999％。,制造第一阶段__提炼硅锭小结）,硅锭切割横向切割成圆形的单个硅片，也就是我们常说的晶圆WAFER。顺便说，这下知道为什么晶圆都是圆形的了吧,晶圆切割出的晶圆经过抛光后变得几乎完美无瑕，表面甚至可以当镜子。事实上，INTEL自己并不生产这种晶圆，而是从第三方半导体企业那里直接购买成品，然后利用自己的生产线进一步加工，比如现在主流的45NMHKMG高K金属栅极。值得一提的是，INTEL公司创立之初使用的晶圆尺寸只有2英寸/50毫米,制造第二阶段_切割晶圆小结）,光刻胶PHOTORESIST图中蓝色部分就是在晶圆旋转过程中浇上去的光刻胶液体，类似制作传统胶片的那种。晶圆旋转可以让光刻胶铺的非常薄、非常平,光刻光刻胶层随后透过掩模MASK被曝光在紫外线UV之下，变得可溶，期间发生的化学反应类似按下机械相机快门那一刻胶片的变化。掩模上印着预先设计好的电路图案，紫外线透过它照在光刻胶层上，就会形成微处理器的每一层电路图案。一般来说，在晶圆上得到的电路图案是掩模上图案的四分之一,光刻由此进入50200纳米尺寸的晶体管级别。一块晶圆上可以切割出数百个处理器，不过从这里开始把视野缩小到其中一个上，展示如何制作晶体管等部件。晶体管相当于开关，控制着电流的方向。现在的晶体管已经如此之小，一个针头上就能放下大约3000万个,制造第三阶段_光刻过程小结）,溶解光刻胶光刻过程中曝光在紫外线下的光刻胶被溶解掉，清除后留下的图案和掩模上的一致,蚀刻使用化学物质溶解掉暴露出来的晶圆部分，而剩下的光刻胶保护着不应该蚀刻的部分。,清除光刻胶蚀刻完成后，光刻胶的使命宣告完成，全部清除后就可以看到设计好的电路图案。,制造第四阶段_光刻胶的使命小结）,光刻胶再次浇上光刻胶蓝色部分，然后光刻，并洗掉曝光的部分，剩下的光刻胶还是用来保护不会离子注入的那部分材料。,离子注入IONIMPLANTATION在真空系统中，用经过加速的、要掺杂的原子的离子照射注入固体材料，从而在被注入的区域形成特殊的注入层，并改变这些区域的硅的导电性。经过电场加速后，注入的离子流的速度可以超过30万千米每小时。,清除光刻胶离子注入完成后，光刻胶也被清除，而注入区域绿色部分也已掺杂，注入了不同的原子。注意这时候的绿色和之前已经有所不同。,制造第五阶段_离子注入小结）,晶体管就绪至此，晶体管已经基本完成。在绝缘材品红色上蚀刻出三个孔洞，并填充铜，以便和其它晶体管互连。,电镀在晶圆上电镀一层硫酸铜，将铜离子沉淀到晶体管上。铜离子会从正极阳极走向负极阴极。,铜层电镀完成后，铜离子沉积在晶圆表面，形成一个薄薄的铜层。,制造第六阶段_电镀晶圆小结）,抛光将多余的铜抛光掉，也就是磨光晶圆表面。,金属层晶体管级别，六个晶体管的组合，大约500纳米。在不同晶体管之间形成复合互连金属层，具体布局取决于相应处理器所需要的不同功能性。芯片表面看起来异常平滑，但事实上可能包含20多层复杂的电路，放大之后可以看到极其复杂的电路网络，形如未来派的多层高速公路系统。,制造第七阶段_抛光处理小结）,晶圆测试内核级别，大约10毫米/05英寸。图中是晶圆的局部，正在接受第一次功能性测试，使用参考电路图案和每一块芯片进行对比。,晶圆切片SLICING晶圆级别，300毫米/12英寸。将晶圆切割成块，每一块就是一个处理器的内核DIE。,丢弃瑕疵内核晶圆级别。测试过程中发现的有瑕疵的内核被抛弃，留下完好的准备进入下一步。,制造第八阶段_晶圆切片小结）,单个内核内核级别。从晶圆上切割下来的单个内核，这里展示的是COREI7的核心。,封装封装级别，20毫米/1英寸。衬底基片、内核、散热片堆叠在一起，就形成了我们看到的处理器的样子。衬底绿色相当于一个底座，并为处理器内核提供电气与机械界面，便于与PC系统的其它部分交互。散热片银色就是负责内核散热的了。,处理器至此就得到完整的处理器了这里是一颗COREI7。这种在世界上最干净的房间里制造出来的最复杂的产品实际上是经过数百个步骤得来的，这里只是展示了其中的一些关键步骤。,制造第九阶段_封装小结）,等级测试最后一次测试，可以鉴别出每一颗处理器的关键特性，比如最高频率、功耗、发热量等，并决定处理器的等级，比如适合做成最高端的COREI7975EXTREME，还是低端型号COREI7920。,装箱根据等级测试结果将同样级别的处理器放在一起装运。,零售包装制造、测试完毕的处理器要么批量交付给OEM厂商，要么放在包装盒里进入零售市场。这里还是以COREI7为例。,制造第十阶段_成品出炉小结）,总结,1、制造第一阶段__提炼硅锭,2、制造第二阶段_切割晶圆,3、制造第三阶段_光刻过程,4、制造第四阶段_光刻胶的使命,5、制造第五阶段_离子注入,6、制造第六阶段_电镀晶圆,7、制造第七阶段_抛光处理,8、制造第八阶段_晶圆切片,9、制造第九阶段_封装小结）,10、制造第十阶段_成品出炉小结）,CPU是如何生产出来的（收转）作为计算机的核心组件，CPU（CENTRALPROCESSORUNIT，中央处理器）在用户的心中一直是十分神秘的在多数用户的心目中，它都只是一个名词缩写，他们甚至连它的全写都拚不出来；在一些硬件高手的眼里，CPU也至多是一块十余平方厘米，有很多脚的块块儿，而CPU的核心部分甚至只有不到一平方厘米大。他们知道这块不到一平方厘米大的玩意儿是用多少微米工艺制成的，知道它集成了几亿几千万晶体管，但鲜有了解CPU的制造流程者。今天，就让我们来详细的了解一下，CPU是怎样练成的。基本材料多数人都知道，现代的CPU是使用硅材料制成的。硅是一种非金属元素，从化学的角度来看，由于它处于元素周期表中金属元素区与非金属元素区的交界处，所以具有半导体的性质，适合于制造各种微小的晶体管，是目前最适宜于制造现代大规模集成电路的材料之一。从某种意义上说，沙滩上的沙子的主要成分也是硅（二氧化硅），而生产CPU所使用的硅材料，实际上就是从沙子里面提取出来的。当然，CPU的制造过程中还要使用到一些其它的材料，这也就是为什么我们不会看到INTEL或者AMD只是把成吨的沙子拉往他们的制造厂。同时，制造CPU对硅材料的纯度要求极高，虽然来源于廉价的沙子，但是由于材料提纯工艺的复杂，我们还是无法将一百克高纯硅和一吨沙子的价格相提并论。制造CPU的另一种基本材料是金属。金属被用于制造CPU内部连接各个元件的电路。铝是常用的金属材料之一，因为它廉价，而且性能不差。而现今主流的CPU大都使用了铜来代替铝，因为铝的电迁移性太大，已经无法满足当前飞速发展的CPU制造工艺的需要。所谓电迁移，是指金属的个别原子在特定条件下（例如高电压）从原有的地方迁出。很显然，如果不断有原子从连接元件的金属微电路上迁出，电路很快就会变得千疮百孔，直到断路。这也就是为什么超频者尝试对NORTHWOODPENTIUM4的电压进行大幅度提升时，这块悲命的CPU经常在“突发性NORTHWOOD死亡综合症（SUDDENNORTHWOODDEATHSYNDROME，SNDS）”中休克甚至牺牲的原因。SNDS使得INTEL第一次将铜互连（COPPERINTERCONNECT）技术应用到CPU的生产工艺中。铜互连技术能够明显的减少电迁移现象，同时还能比铝工艺制造的电路更小，这也是在纳米级制造工艺中不可忽视的一个问题。不仅仅如此，铜比铝的电阻还要小得多。种种优势让铜互连工艺迅速取代了铝的位置，成为CPU制造的主流之选。除了硅和一定的金属材料之外，还有很多复杂的化学材料也参加了CPU的制造工作。,准备工作解决制造CPU的材料的问题之后，我们开始进入准备工作。在准备工作的过程中，一些原料将要被加工，以便使其电气性能达到制造CPU的要求。其一就是硅。首先，它将被通过化学的方法提纯，纯到几乎没有任何杂质。同时它还得被转化成硅晶体，从本质上和海滩上的沙子划清界限。在这个过程中，原材料硅将被熔化，并放进一个巨大的石英熔炉。这时向熔炉里放入一颗晶种，以便硅晶体围着这颗晶种生长，直到形成一个几近完美的单晶硅。如果你在高中时把硫酸铜结晶实验做的很好，或者看到过单晶冰糖是怎么制造的，相信这个过程不难理解。同时你需要理解的是，很多固体物质都具有晶体结构，例如食盐。CPU制造过程中的硅也是这样。小心而缓慢的搅拌硅的熔浆，硅晶体包围着晶种向同一个方向生长。最终，一块硅锭产生了。现在的硅锭的直径大都是200毫米，而CPU厂商正在准备制造300毫米直径的硅锭。在确保质量不变的前提下制造更大的硅锭难度显然更大，但CPU厂商的投资解决了这个技术难题。建造一个生产300毫米直径硅锭的制造厂大约需要35亿美元，INTEL将用其产出的硅材料制造更加复杂的CPU。而建造一个相似的生产200毫米直径硅锭的制造厂只要15亿美元。作为第一个吃螃蟹的人，INTEL显然需要付出更大的代价。花两倍多的钱建造这样一个制造厂似乎很划不来，但从下文可以看出，这个投资是值得的。硅锭的制造方法还有很多，上面介绍的只是其中一种，叫做CZ制造法。硅锭造出来了，并被整型成一个完美的圆柱体，接下来将被切割成片状，称为晶圆。晶圆才被真正用于CPU的制造。一般来说，晶圆切得越薄，相同量的硅材料能够制造的CPU成品就越多。接下来晶圆将被磨光，并被检查是否有变形或者其它问题。在这里，质量检查直接决定着CPU的最终良品率，是极为重要的。没有问题的晶圆将被掺入适当的其它材料，用以在上面制造出各种晶体管。掺入的材料沉积在硅原子之间的缝隙中。目前普遍使用的晶体管制造技术叫做CMOS（COMPLEMENTARYMETALOXIDESEMICONDUCTORS，互补式金属氧化物半导体）技术，相信这个词你经常见到。简单的解释一下，CMOS中的C（COMPLEMENTARY）是指两种不同的MOS电路“N”电路和“P”电路之间的关系它们是互补的。在电子学中，“N”和“P”分别是NEGATIVE和POSITIVE的缩写，用于表示极性。可以简单的这么理解，在“N”型的基片上可以安装“P”井制造“P”型的晶体管，而在“P”型基片上则可以安装“N”井制造“N”型晶体管。在多数情况下，制造厂向晶圆里掺入相关材料以制造“P”基片，因为在“P”基片上能够制造出具有更优良的性能，并且能有效的节省空间的“N”型晶体管；而这个过程中，制造厂会尽量避免产生“P”型晶体管。,接下来这块晶圆将被送入一个高温熔炉，当然这次我们不能再让它熔化了。通过密切监控熔炉内的温度、压力和加热时间，晶圆的表面将被氧化成一层特定厚度的二氧化硅（SIO2），作为晶体管门电路的一部分基片。如果你学过逻辑电路之类的，你一定会很清楚门电路这个概念。通过门电路，输入一定的电平将得到一定的输出电平，输出电平根据门电路的不同而有所差异。电平的高低被形象的用0和1表示，这也就是计算机使用二进制的原因。在INTEL使用90纳米工艺制造的CPU中，这层门电路只有5个原子那么厚。准备工作的最后一步是在晶圆上涂上一层光敏抗蚀膜，它具有光敏性，并且感光的部分能够被特定的化学物质清洗掉，以此与没有曝光的部分分离。完成门电路这是CPU制造过程中最复杂的一个环节，这次使用到的是光微刻技术。可以这么说，光微刻技术把对光的应用推向了极限。CPU制造商将会把晶圆上覆盖的光敏抗蚀膜的特定区域曝光，并改变它们的化学性质。而为了避免让不需要被曝光的区域也受到光的干扰，必须制作遮罩来遮蔽这些区域。想必你已经在PHOTOSHOP之类的软件里面认识到了遮罩这个概念，在这里也大同小异。在这里，即使使用波长很短的紫外光并使用很大的镜头，也就是说，进行最好的聚焦，遮罩的边缘依然会受到影响，可以简单的想象成边缘变模糊了。请注意我们现在讨论的尺度，每一个遮罩都复杂到不可想象，如果要描述它，至少得用10GB的数据，而制造一块CPU，至少要用到20个这样的遮罩。对于任意一个遮罩，请尝试想象一下北京市的地图，包括它的郊区；然后将它缩小到一块一平方厘米的小纸片上。最后，别忘了把每块地图都连接起来，当然，我说的不是用一条线连连那么简单。当遮罩制作完成后，它们将被覆盖在晶圆上，短波长的光将透过这些石英遮罩的孔照在光敏抗蚀膜上，使之曝光。接下来停止光照并移除遮罩，使用特定的化学溶液清洗掉被曝光的光敏抗蚀膜，以及在下面紧贴着抗蚀膜的一层硅。当剩余的光敏抗蚀膜也被去除之后，晶圆上留下了起伏不平的二氧化硅山脉，当然你不可能看见它们。接下来添加另一层二氧化硅，并加上了一层多晶硅，然后再覆盖一层光敏抗蚀膜。多晶硅是上面提到的门电路的另一部分，而以前这是用金属制造而成的（即CMOS里的MMETAL）。光敏抗蚀膜再次被盖上决定这些多晶硅去留的遮罩，接受光的洗礼。然后，曝光的硅将被原子轰击，以制造出N井或P井，结合上面制造的基片，门电路就完成了。,
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